林上光学真空镀膜仪器参数:
技术参数:LS152测厚仪
测试波长:850nm红外线,530nm绿光可选
测量光斑:5mm圆形
透过率测量精度:优于±1%(无色均匀透光物质)
透过率分辨率:0.005%
光密度测量范围:0.00 OD - 5.00 OD
光密度分辨率:0.01 OD for 0.00-3.00 OD
0.05 OD for 3.00-5.00 OD
最大测量点数:45点
相邻探头之间距离:最小35mm
光源探头和接收探头之间距离:20mm
工作温度:-10℃ ~ 60℃
存储温度:-20℃ ~ 70℃
相对湿度:小于85%,不结露
数据刷新周期:普通模式300ms/快速模式100ms
通讯接口:双路RS485
通讯协议:支持标准MODBUS协议
仪器尺寸:长(根据客户要求定制)×宽(80mm)×高(180mm)
需真空法兰电极芯数:6根(不配电脑监控)
9根(配电脑监控)
电源:220V AC/50Hz
光学真空镀膜设备可用于检测塑料,塑料的真空镀层与光固化有机涂层的复合,一般采用真空镀铝与光固化有机涂层的复合,但在防护等性能上受到很大的限制。真空镀铬是今后的发展方向之一。真空镀铬层具有比铝镀层更美丽的银白金属光泽,在大气中有很强的钝化性能,在碱、硝酸、硫化物、碳酸盐、有机酸等腐蚀介质中稳定,还有较高的硬度,良好的耐磨性和耐热性。
光学真空镀膜在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,极为敏感的半导体材料。此外,其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、低价格制作、因此采用薄膜的情况很多。